'반도체 기술 中 유출' 삼성전자 前 직원, 2심서 징역 6년

1심보다 1년 감형…法 "해고 후 국내 재취업 어려웠던 점 참작"

[SRT(에스알 타임스) 윤서연 기자] 삼성전자의 핵심 반도체 기술을 중국 기업에 유출한 혐의로 재판에 넘겨진 삼성전자 전직 직원과 협력업체 직원이 항소심에서도 실형을 선고받았다.

23일 서울고법 형사8부(김성수 부장판사)는 산업기술보호법 위반 등 혐의로 기소된 전직 삼성전자 부장 김 모 씨에게 징역 6년과 벌금 2억원을 선고했다. 1심에서 받은 징역 7년보다 1년 감형됐다. 협력사 A사 직원 방 모 씨에게는 1심과 같은 징역 2년 6개월이 선고됐다.

재판부는 "피해 회사들에 막대한 피해가 유발될 수밖에 없고 국가에도 악영향을 주는 중대한 범죄를 저지르고 범행을 주도했다"며 "피해 복구 가능성도 없어 이에 상응하는 엄한 처벌이 필요하다"고 지적했다. 

다만 "피고인은 범죄 전력이 없고 다니던 회사에서 해고된 후 국내 재취업이 어렵게 되자 부득이하게 중국 기업에 취업했고 그 과정에서 이 사건 범행에 이른 것으로 보인다"며 "핵심 기술 유출에는 관여하지 않은 점 등을 고려해 원심보다 낮은 형을 선고한다"고 설명했다.

검찰에 따르면 김씨는 삼성전자에서 반도체 공정 기술을 취급한 뒤 퇴직한 인물로, 국가핵심기술로 지정된 18나노 D램 증착 공정 등 7개 핵심 공정 기술을 무단으로 유출한 혐의를 받는다. 이들은 2016년경 중국 신생 반도체 업체 창신메모리테크놀로지(CXMT)에 이직하며 관련 기술 자료를 넘기고 대가로 수백억원대 금품을 약속받은 것으로 드러났다.