HKMG 반도체 기술 등 유출…협력사 법인엔 벌금 10억원
[SRT(에스알 타임스) 윤서연 기자] SK하이닉스의 핵심 반도체 기술을 중국 업체에 유출한 협력사 부사장 A씨에게 징역 1년 6개월의 실형이 확정됐다. 대법원은 산업기술보호법 및 부정경쟁방지법 위반 혐의로 기소된 A씨에 대해 원심 판단을 그대로 인정했다.
대법원 1부(주심 신숙희 대법관)는 12일 반도체 장비업체 B사 부사장 A씨에게 징역 1년 6개월을 선고한 원심 판결을 확정했다고 밝혔다. 이와 함께 A씨와 함께 기소된 연구소장 등 직원 3명에게도 각각 징역 1년에서 1년 6개월의 실형, 또 다른 직원 1명에게는 징역 8개월에 집행유예 2년이 선고됐다. 회사 법인에도 양벌규정에 따라 벌금 10억원이 확정됐다.
이들은 2018년부터 2020년까지 SK하이닉스와 협업하며 알게 된 반도체 세정 레시피와 하이케이메탈게이트(HKMG) 공정 기술 등 핵심 정보를 중국 반도체 업체에 유출한 혐의를 받았다. HKMG는 D램 반도체의 성능을 높이고 전력 소모를 줄일 수 있는 차세대 기술로, 국내 반도체 산업의 핵심 자산으로 꼽힌다.
또한 A씨 등은 삼성전자 자회사 세메스의 전직 직원들을 통해 초임계 세정장비 도면 등 첨단 기술을 몰래 입수하고, 이를 활용해 중국 수출용 장비를 개발하려 한 혐의도 받았다.
1심 재판부는 A씨에게 징역 1년을 선고하며 "수출 활로 모색 과정에서 발생한 일로 산업 스파이 활동과는 구별된다"고 판단했다. 그러나 2심은 SK하이닉스와 공동 개발한 기술을 다른 업체에 넘긴 사실까지 유죄로 인정하고 형량을 높였다.
2심 재판부는 "피고인들의 범행은 피해 회사뿐 아니라 우리 사회 공공의 연구개발 및 보호 장치 시스템 구축 노력과 의지를 무력화하고 허탈감을 안겨줬으며, 관련 분야의 건전한 경쟁과 거래질서를 심각하게 저해했다"며 "사회 전반과 산업계에 미친 악영향과 부정적 파급력을 고려하지 않을 수 없다"고 판단했다.
대법원은 "원심 판단에 법리 오해는 없다"며 검찰과 피고인의 상고를 모두 기각했다.