- 2030년까지 시스템 반도체 육성…R&D 73조원·생산시설 60조원 투자
- R&D·제조 전문인력 1만5,000명 직접 고용...42만명 간접 고용 효과 예상
[SR(에스알)타임스 심우진 기자] 삼성전자(대표 김기남 김현석 고동진)가 24일 '반도체 비전 2030' 달성을 위해 2030년까지 시스템 반도체 분야에 133조원을 투자하고, 전문인력 1만5,000명을 채용한다고 밝혔다.
아울러 삼성전자는 시스템 반도체 인프라와 기술력을 공유해 반도체 설계 전문업체인 팹리스(Fabless), 설계 서비스 기업인 디자인하우스(Design House) 등 국내 시스템 반도체 생태계의 경쟁력을 강화할 방침이다. 아울러 국내 중소업체와의 상생협력을 통해 한국 시스템 반도체산업 발전에 앞장설 계획이다.
삼성전자는 시스템 반도체 사업경쟁력 강화를 위해 2030년까지 국내 R&D 분야 73조원, 생산 인프라 60조원 등 총 133조원 규모의 투자를 진행한다.
이를 통해 국내 시스템 반도체 연구개발 인력 양성과 생산시설 확충이 이루어질 경우 국내 설비·소재 업체를 포함한 시스템 반도체 생태계 발전에 긍정적인 영향이 예상된다.
아울러 삼성전자 화성캠퍼스 신규 극자외선(EUV) 생산라인을 활용해 생산량을 증대하고, 국내 신규 라인 투자도 지속 추진할 계획이다. 또한 삼성전자는 시스템 반도체 R&D 및 제조 전문인력 1만5,000명을 채용해 기술경쟁력을 강화할 계획이다.
삼성전자 측은 2030년까지 연평균 11조원의 R&D 및 시설투자가 집행되고, 생산량이 증가함에 따라 42만명의 간접 고용유발 효과가 발생할 것으로 예상된다고 설명했다.
한편 삼성전자는 국내 팹리스 업체를 지원하는 등 상생협력을 통해 한국 시스템 반도체 산업생태계를 강화한다. 국내 중소 팹리스 제품 경쟁력 강화 및 개발기간 단축을 위해 인터페이스IP, 아날로그 IP, 시큐리티 IP 등 삼성전자가 개발한 IP를 지원한다. 아울러 삼성전자가 개발한 설계·불량 분석 툴 및 소프트웨어 등도 함께 지원할 계획이다.
그간 시스템 반도체 분야는 다품종 소량생산이 특징인 탓에 국내 중소 팹리스업체의 경우 수준 높은 파운드리 서비스를 활용하는데 큰 어려움을 겪어왔다.
앞으로 삼성전자는 반도체 위탁생산 물량 기준 완화를 통해 국내 중소 팹리스업체의 소량제품 생산을 적극적으로 지원할 계획이다. 또한 국내 중소 팹리스 업체의 개발활동에 필수적인 웨이퍼 하나에 여러 칩을 생산해 테스트하는 MPW(Multi-Project Wafer)프로그램을 공정당 연 2~3회로 확대 운영한다. 이 밖에도 삼성전자는 국내 디자인하우스 업체와의 외주협력도 지속 확대해 나갈 계획이다.
업계는 삼성전자의 이번 발표에 대해 정부의 신성장동력 확보 정책 중 하나인 비메모리 반도체 산업 육성과 일맥상통하는 내용을 담은 중장기 계획으로 평가하고 있다.