▲지난해 열린 ‘국제고체회로학회(ISSCC) 2024’에서 참가자가 발표하고 있다.ⓒISSCC
▲지난해 열린 ‘국제고체회로학회(ISSCC) 2024’에서 참가자가 발표하고 있다.ⓒISSCC

中 논문 채택 3년 연속 1위…삼성전자, 단일 기업 최다 채택

[SRT(에스알 타임스) 문재호 기자] 반도체 설계 분야에서 가장 권위 있는 국제고체회로학회(ISSCC)가 올해도 세계 유수의 기업과 석학들을 한데 모은다. ‘반도체 설계 올림픽’으로 불리는 이 학회에서 각국 연구진이 최첨단 기술을 공개하는 가운데, 중국이 3년 연속 논문 채택률 1위를 기록하며 반도체 분야에서의 성장을 입증할 전망이다.

16일 업계에 따르면 ‘ISSCC 2025’는 이날일부터 20일까지(현지시간) 미국 샌프란시스코에서 열린다. 올해 학회의 주제는 ‘인공지능(AI) 혁명을 이끄는 실리콘 엔진’이며 약 3,000명이 참석할 예정이다. 반도체 회로 설계는 칩의 성능, 전력 효율, 비용 등을 결정하는 핵심 과정으로, 이번 학회에는 학계 전문가 뿐만 아니라 삼성전자, SK하이닉스, 엔비디아 등 글로벌 빅테크 기업들도 대거 참여한다.

이번 ISSCC에서 특히 주목할 부분은 중국의 급격한 성장세다.

과거 논문 수만 늘리는 데 집중했던 중국이 이제 연구의 질적 향상을 통해 높은 채택률을 기록하며 기술력을 인정받고 있다. 올해 국가별 논문 채택 수를 살펴보면 중국(홍콩·마카오 포함) 92건 미국 55건 한국 44건 대만 20건 일본 8건 순으로 나타났다.

중국의 논문 채택 수는 2023년부터 급증하며 3년 연속 1위를 차지했다. 올해는 전년 대비 23건 증가한 92건을 기록했으며, 특히 대학 연구 중심으로 성장세가 두드러졌다. 반면 미국은 같은 기간 논문 채택 수가 20% 감소했다. 한국도 꾸준한 증가세를 보이고 있지만, 중국과의 격차는 더 벌어졌다.

한편, 개별 기업 중에서는 삼성전자가 지난해에 이어 올해도 가장 많은 논문을 채택(11건)받으며 1위를 기록했다. 대만의 미디어텍이 7건으로 그 뒤를 이었다. 삼성전자는 이번 학회에서 3층 적층형 ‘상보성 금속 산화막 반도체(CMOS)’ 이미지 센서 등 총 2건의 논문을 발표할 예정이다.

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